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廢氣處理設(shè)備_半導(dǎo)體廢氣排放處理設(shè)備_半導(dǎo)體廢氣吸收裝置

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2021/5/13 瀏覽次數(shù)：

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行業(yè)概括

半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。揮發(fā)性有機(jī)廢氣主要來源于光刻、顯影、刻蝕及擴(kuò)散等工序，在這些工序中要用有機(jī)溶液（如異丙醇對晶片表面進(jìn)行清洗，其揮發(fā)產(chǎn)生的廢氣是有機(jī)廢氣的來源之一；同時(shí)，在光刻、刻蝕等過程中使用的光阻劑（光刻膠）中含有易揮發(fā)的有機(jī)溶劑，如醋酸丁酯等在晶片處理過程中也要揮發(fā)到大氣中，是有機(jī)廢氣產(chǎn)生的又一來源。半導(dǎo)體制造工藝中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機(jī)物成分。在工藝過程中，這些有機(jī)溶劑大部分通過揮發(fā)成為廢氣排放。

目前，有機(jī)廢氣排放處理措施采用大風(fēng)量低濃度，其處理一般采用吸附濃縮與焚燒相結(jié)合的方法，處理效率在95%以上。

設(shè)計(jì)原則：

(1)協(xié)助企業(yè)采用科學(xué)合理的收集方式，在達(dá)到收集效果的前提下，盡量減少氣量。

(2)積較穩(wěn)妥地采用新技術(shù)、新設(shè)備，結(jié)合企業(yè)的現(xiàn)狀和管理水平采用先進(jìn)、.的污染治理工藝，力求運(yùn)行穩(wěn)定、費(fèi)用低、管理方便、維護(hù)容易，從而達(dá)到都消除廢氣污染、保護(hù)環(huán)境的目的。

(3)妥善解決項(xiàng)目建設(shè)及運(yùn)行過程中產(chǎn)生的污染物，避免二次污染。

(4)嚴(yán)格執(zhí)行現(xiàn)行的防火、安全、衛(wèi)生、環(huán)境保護(hù)等GJ和地方頒布的規(guī)范、法規(guī)與標(biāo)準(zhǔn)。

(5)選擇新型、效率高、低噪設(shè)備、注意節(jié)能降耗。

(6)總平面布置力求緊湊、合理通暢、簡潔實(shí)用。盡量減小工程占地和施工難度。

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